EUV lithography

EUV 리소그래피는 파장 13.5 nm의 빛으로 패턴을 전사합니다. 복잡한 일부 층에 EUV를 사용하며 같은 제조 흐름에서 DUV도 함께 사용합니다. 광원의 파장은 공정명이나 최종 패턴 치수와 다릅니다.

EUVextreme ultraviolet극자외선lithography

사양

2 SOURCE-LINKED FIELDS

Light wavelength	Manufacturer / primary sourceASML Scope: concept
Complementary technology	Manufacturer / primary sourceASML Scope: concept

THE VISUAL EVIDENCE

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1 SOURCE-LINKED RELATIONSHIPS

연결된 기록 · patterned bySilicon waferwafer

Lithography projects patterns onto a wafer; use of EUV is process-specific.

ASML · official-disclosure · primary source verified