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원문에서 보기 · YouTube ↗Unveiling High NA EUV | ASML
ASML의 공식 High-NA EUV 소개 영상입니다. NXE:3600D EUV 기록의 기술 맥락이며, 해당 0.33-NA 모델을 다루거나 제품 문서를 대체하는 영상은 아닙니다.
ASML · en · 2024-06-05EQUIPMENT
ASML TWINSCAN NXE:3600D
300 mm 웨이퍼 노광용 ASML 0.33-NA EUV 스캐너.
NXE:3600D
사양
4 SOURCE-LINKED FIELDS| Identity & fabrication | |
|---|---|
| Process application | Manufacturer / primary sourceASML Scope: tool-model |
| Additional specifications | |
| EUV wavelength | Manufacturer / primary sourceASML Scope: tool-model |
| Projection numerical aperture | Manufacturer / primary sourceASML Scope: tool-model |
| Maximum exposure field | Manufacturer / primary sourceASML Scope: tool-model |
구조와 동작
ASML describes a tin-plasma 13.5 nm EUV source and reflective projection optics; its metrology position permits in-situ measurement while another wafer is exposed.
Values below are vendor specifications and the throughput condition must remain attached.
THE VISUAL EVIDENCE
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출처와 당시의 맥락
TWINSCAN NXE:3600D
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